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      太平洋電腦網 22小時前

      蘋果 20 周年 iPhone 前瞻:無邊框設計與自研芯片成焦點

      【太平洋科技快訊】10 月 28 日消息,據(jù)媒體報道,為紀念 iPhone 問世 20 周年,蘋果預計將在 2027 年跳過 "iPhone 19" 的命名,直接推出名為 "iPhone 20" 的里程碑式產品。這一策略與 2017 年跳過 iPhone 9、直接推出 iPhone X 的做法一脈相承。盡管距離發(fā)布尚有兩年,但關于這款紀念機型的關鍵細節(jié)已初露端倪。

      圖源網絡

      顛覆性外觀:無邊框曲面屏設計

      蘋果長期追求的 " 宛如整塊玻璃 " 的無開孔、無邊框設計愿景,有望在 iPhone 20 上實現(xiàn)。爆料指出,蘋果正研發(fā)曲面屏方案,以此營造無邊界視覺效果。值得注意的是,三星曾在 Galaxy 系列上應用曲面屏,但隨后又棄用該方案。若蘋果最終采用,iPhone 或將呈現(xiàn)出無邊框的視覺觀感。

      屏下技術:Face ID 與前置攝像頭的抉擇

      為實現(xiàn)真正的全屏幕設計,蘋果或需移除靈動島和前置攝像頭開孔。然而,關于屏下 Face ID 技術能否在 2027 年落地,目前傳聞存在分歧。有分析師認為難以實現(xiàn),但也有爆料稱存在可能。若無法將所有組件嵌入屏下,蘋果或采取 " 屏下 Face ID + 前置攝像頭小孔徑開孔 " 的折中方案。

      顯示與影像:屏幕與傳感器全面升級

      iPhone 20 預計將搭載更亮、更薄的新型 OLED 屏幕。該機有望采用三星 COE 技術,通過移除偏光片來減薄模組、提升亮度并降低功耗。同時,攝像頭將迎來重大升級,可能采用定制 HDR 傳感器與可變光圈技術,升級后的機型有望在單幀畫面內同時捕捉更豐富的高光與陰影細節(jié)。

      核心硬件:自研芯片與基帶的突破

      在核心性能上,iPhone 20 可能搭載第二代 2nm 工藝的 A21 芯片,持續(xù)推動性能與能效的邊界。更值得關注的是,蘋果計劃在其 20 周年紀念機型上全面采用自研調制解調器,蘋果預計屆時自研調制解調器能在速度、AI 功能及能效上全面超越高通產品,此舉有望提升設備的續(xù)航表現(xiàn)。

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